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脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition, PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。

产品优势:
我司高能量纳秒激光器,针对该领域的优势是:
- 输出能量高。各波长能量能量均高于300mJ
- 重复频率高,灯泵浦和二极管泵浦纳秒激光器均可以做到100-200Hz。LD系列激光器可以实现100KHz
- 多波长激光器内部自动切换输出,如532/355/266nm
- 高性价比。较传统准分子激光器有更高的性价比

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